Diminuer l’empreinte carbone des nanotechnologies

Résultats scientifiques

La durabilité des nanotechnologies, aujourd’hui présentes dans presque tous les secteurs de l’industrie, devient une préoccupation urgente. Des chimistes du CNRS mènent l’enquête pour des technologies de couches minces largement utilisées dans l’industrie des semi-conducteurs et du photovoltaïque. 

Bien qu’elles utilisent peu de matière, les nanotechnologies participent bien à l’épuisement des ressources. Elles peuvent aussi présenter un bilan énergétique peu favorable. Face à ce constat, des efforts de recherche sont menés pour quantifier et diminuer leur impact environnemental. Un exemple : le dépôt de couches atomiques ou Atomic Layer Deposition, (ALD). Cette technique permet de déposer des couches minces d’une large gamme de nanomatériaux, avec une excellente uniformité des couches et un contrôle de leur épaisseur à l’échelle nanométrique. L'ALD est utilisée dans diverses applications, notamment dans l'industrie des semi-conducteurs et de l'énergie photovoltaïque. Ces procédés sont cependant très énergivores et gaspillent une quantité significative de matériaux précurseurs et de gaz.

Pour quantifier leur impact environnemental et trouver des solutions pour le réduire, des chimistes du Laboratoire des matériaux et du génie physique (CNRS/Grenoble-INP/Université Grenoble Alpes), en collaboration avec l’Université de Bochum en Allemagne et la société Air Liquide, ont passé au crible les procédés ALD. Ils ont pour cela repris toutes les sources de pollution des procédés existants et les ont analysés selon les principes de la chimie verte. Cette étude leur a permis de suggérer plusieurs approches pour réduire l’empreinte écologique de cette technologie innovante.

En particulier, l'optimisation des procédés grâce aux outils de machine learning et d'IA, ainsi que l'utilisation de technologies à haut débit comme l'ALD spatiale, permettrait de limiter la consommation énergétique de cette nanotechnologie. Mais c’est la synthèse chimique de précurseurs plus « verts » pour la formation des couches nanométriques qui aurait le plus d’impact. Des précurseurs optimisés permettraient la réduction de l’empreinte globale, des matières premières extraites à la diminution du nombre d'étapes de synthèse. De plus, des températures de dépôt plus faibles et les émissions de sous-produits moins polluants sont les autres avantages qui motivent la recherche de précurseurs plus verts.

Ces résultats, parus dans la revue ACS Materials, permettent d’envisager un avenir plus durable pour une des techniques très utilisées des nanotechnologies.

Rédacteur: AVR

© Matthieu Weber

Référence

Assessing the Environmental Impact of Atomic Layer Deposition (ALD) Processes and Pathways to Lower It
Matthieu Weber, Nils Boysen, Octavio Graniel, Abderrahime Sekkat, Christian Dussarrat, Paulo Wiff, Anjana Devi & David Muñoz-Rojas.
ACS Materials 2023

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsmaterialsau.3c00002

 

Contact

Matthieu Weber
Matthieu Weber, Ingénieur de recherche au Laboratoire des matériaux et du génie physique (CNRS/Université Grenoble Alpes)
Stéphanie Younès
Responsable Communication - Institut de chimie du CNRS
Christophe Cartier dit Moulin
Chercheur à l'Institut parisien de chimie moléculaire & Chargé de mission pour la communication scientifique de l'INC
Anne-Valérie Ruzette
Chargée scientifique pour la communication - Institut de chimie du CNRS